1.电子电镀工业超纯水概述 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。
我公司依据客户的特殊需求,应用超滤、反渗透、EDI、抛光混床等先进的技术产品,以满足不同的电子元器件生产对水质特殊的要求。产品水水质可达到我国电子级水质标准的各级指标要求。
2.制备电子工业超纯水的工艺流程 采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺.
其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
3.电子工业超纯水的应用领域 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水 超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水; 光学玻璃镀膜、光电子及光纤 超纯材料和超纯化学试剂 汽车、家电表面抛光处理; 光电子产品; 其他高科技精微产品;
4设备特点: 按需定制,柔性生产 技术领先,品质稳定 占地节省,维护简易
5.标准法规 中国国家电子级超纯水规格 GB/T11446.1-1997
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